随着半导体工艺节点不断演进，晶圆表面的洁净要求也越来越严苛。晶圆表面微污染杂质是影响芯片良率和芯片产品性能的关键因素。为应对高阶工艺对微污染控制提出的新挑战和新需求，11月19日，集成电路材料产业技术创新联盟（以下简称“材料联盟”）与科百特过滤器材有限公司（以下简称“科百特”）共同举办的集成电路超净工艺技术Workshop在杭州萧山区顺利举行。
此次会议采用了线上线下同时进行的形式，来自集成电路制造、硅材料、工艺化学品、光刻胶、CMP材料等产业链上下游企业的高层、技术人员及研究院所的学者共计约80余人参加了此次会议。
杭州市萧山区倪世英副区长首先致辞，热烈祝贺本次Workshop顺利召开，并表达了萧山区大力支持集成电路产业发展的决心。
倪世英副区长致辞
材料联盟石瑛秘书长进行了连线致辞，她表示，我国集成电路材料产业经过近十年的发展，已经取得了很好的成绩。有一批企业已经成长起来，并有一大批产品在国内的逻辑电路以及先进存储制造中大批量应用。但是，在材料技术开发和生产与应用中的微污染，包括颗粒污染、金属杂质的污染等是行业目前共同面对的技术难题。在硅片、光刻胶、工艺化学品、电子特气，甚至靶材等领域，超净技术都是非常关键和核心的技术。因此，材料联盟从今年起将定期举办超净工艺技术Workshop。她感谢各位嘉宾莅临会议，感谢报告嘉宾即将呈现的精彩报告，以及科百特对此次会议的组织和支持，并预祝会议圆满完成。
石瑛秘书长在线上致辞
随后，科百特创始人兼CEO张应民致辞，他介绍了科百特的发展状况。表示科百特一直专注在膜技术的发展，在集成电路领域可用于光刻、清洗、刻蚀和抛光等200多个工艺点的微污染过滤和纯化，最小精度已经做到1nm。科百特在纳米过滤纯化膜的研发道路上，离不开广大客户的鼎力支持。科百特今后也将继续坚持攻克各项技术难关，并与产业链上的各企业一起，携手共创更好的未来。
张应民CEO致辞
上海集成电路材料研究院董事长俞文杰致辞，他表示集成电路是战略性、基础性、先导性的产业，随着国家集成电路行业的发展深化，产业链各支撑环节越来越受瞩目，此次会议是一个加深产业链上下游沟通交流互动的平台。他对Workshop的举行表示热烈祝贺，并预祝本次workshop圆满成功。
俞文杰董事长致辞
此次会议特别邀请了武汉新芯集成电路制造有限公司首席运营官孙鹏、上海华力集成电路制造有限公司先进模块湿法研发专家李芳科长、安集微电子科技(上海)股份有限公司应用总监王胜利和杭州科百特过滤器材有限公司CTO山田善章(Yamada Yoshiaki)做了精彩报告。
上海华力集成电路制造有限公司先进模块湿法研发专家李芳科长线上做了《先进工艺清洗技术发展及其对相关材料的需求》的报告，从清洗工艺的发展和挑战给材料厂家提供了方向和建议。随着晶体管结构逐渐过渡到立体的鳍式结构、应力效应锗化硅的导入、高深宽比深槽结构的增加等一系列挑战，清洗工艺步骤约占到总工艺步骤的20-30%，对相关材料的需求也不断增加。华力研发部门同时也正在与业内企业积极合作，开展相关湿法设备和化学材料的多元化评估。
武汉新芯集成电路制造有限公司首席运营官孙鹏在《高纯化学品微污染控制》的报告中指出未来5-7年，全球半导体市场总体趋势乐观向上，市场需求驱动点更为丰富。先进制程对湿法刻蚀提出更高要求，刻蚀工艺要求提高良品率及可靠性控制，微颗粒控制是关键之一。他还进行了案例分享，提出高品质化学品供应的关键三点：稳定生产、警惕变更及快速响应。尤其是数据的保存和监控过程非常重要，供应商在品质管理上必须达到体系化和数字化，才能保证向Fab供应高品质稳定的化学品。
安集微电子科技（上海）股份有限公司应用总监王胜利在《先进制程刻蚀后清洗技术》的报告中表示安集配制湿法化学液的产品范围可以满足不同HVM需求，包括铝、铜、钴互联及晶圆级别封装应用；并始终专注于CMP抛光液及定制湿法化学品，经过15年来的积累沉淀，具备现场支持的质量管控能力；作为配制湿法化学液的行业领头企业之一，致力于寻求与客户和合作伙伴的更好合作。
上午的最后一个报告是由科百特的首席技术官山田善章给出的《半导体制造工艺整体洁净解决方案》，他表示随着半导体器件的微细化和高集成化，半导体工序数的增加以及所使用的药液的多样化在不断拓展，对药液的品质提升要求的不断提高引发出一系列的课题，如何在化学品供应链中进行污染控制；如何保持药液的品质、提升其洁净度；以及从成本角度如何采用更有效的手段等。他还介绍了科百特的相关产品，并表示公司在开发新产品的同时亦开发了新的评价技术、导入了最先进的分析设备，并注重同步提升自身的设备管理技术，最大限度保持分析设备的最佳状态。
下午，参会的技术专家分别参观了科百特半导体滤芯百级洁净车间、7000平技术验证中心、200L超净包装桶和高纯化学品内衬设备制造车间，嘉宾们对科百特的公司文化、生产过程和质量管控体系有了近距离直观了解，对未来的技术和产业合作起到了积极作用。
之后，由材料联盟咨询委专家、宁波南大光电材料有限公司总经理许从应主持了技术交流会。参会嘉宾共同探讨了半导体先进制造工艺微污染控制面临的挑战，工艺化学品和光刻胶技术专家们分享了材料的现状和急需要攻克的难题，其中TMAH的纯化与高纯化学品的包装容器备受关注。与会代表纷纷表示此次Workshop对于探讨应用端和各材料生产环节遇到微污染问题及其解决方案是非常有效的组织方式。
